AMAYA

AMAYA 大氣化學氣相沉積設備 (AP-CVD)

特點
目前主力應用機種 - AMAX800V (8吋) 與 MAX1200 (12吋)大氣化學氣相沉積設備
可應用於各式沉積膜之不同機種,如:SiO2、BPSG、BSG、PSG、AlOx。
可在200℃ 到500℃ 的溫度範圍進行沉積膜製程。
機台零件販售。
機台現場維修服務。
機台軟體/硬體改造服務。

產品介紹

大氣化學氣相沉積設備 (AP-CVD),廣泛運用於Semiconductor 與Solar Cell。
更多介紹

商品諮詢聯絡人:彭子茜  電話:03-5576060
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