AMAYA 大氣化學氣相沉積設備 (AP-CVD)

特點: 目前主力應用機種 - AMAX800V (8吋) 與 MAX1200 (12吋)大氣化學氣相沉積設備; 可應用於各式沉積膜之不同機種，如:SiO2、BPSG、BSG、PSG、AlOx。; 可在200℃ 到500℃ 的溫度範圍進行沉積膜製程。; 機台零件販售。; 機台現場維修服務。; 機台軟體/硬體改造服務。

大氣化學氣相沉積設備 (AP-CVD)，廣泛運用於Semiconductor 與Solar Cell。
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